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美国Lumina企业表面缺陷光学扫描仪

美国Lumina企业表面缺陷光学扫描仪
 美国Lumina企业采用**的激光器扫描技术开发出一种新型的光学扫描系统AT1,用来对材料整个表面的缺陷进行绘图和分类,薄膜缺陷扫描灵敏度<0.5nm。其在透明材料上亚纳米薄膜涂层的成像能力是****的,可区分透明基底的顶部/底部特征。AT1已被普遍用于蓝宝石、玻璃和硅等材料的表面缺陷检测。
 
 美国Lumina企业表面缺陷光学扫描仪产品特征:
 1.透明、半透明和不透明的材料均可测量,比如硅、化合物半导体或金属基底;
 2.实现亚纳米的薄膜涂层、纳米颗粒、划痕、凹坑、凸起、应力点和其他缺陷的全表面扫描和成像;
 3.150mm晶圆全表面扫描的扫描时间为3分钟,50x50mm样品30秒内可完成扫描并显示结果;
 4.高抗震性能,系统不旋转,形状无关,可容纳非圆形和易碎的基底材料;
 5.高达300x300mm的扫描区域;可定位缺陷,以便进一步阐发;
 
 AT1有四个检测通道,采用四种独立的方法:偏振,亮场,坡度和暗场,几分钟内,就能提供材料表面的四张完整图像,每个图像代表特定的缺陷:
 1.偏振通道用于薄膜、划痕和应力点;
 2.坡度通道用于凹坑、凸起;
 3.反射通道用于粗拙表面的颗粒;
 4.暗场通道用于微粒和划痕;
 
 基于多次检测,AT1生成缺陷图和报告,包括:
 1.地图和位置;
 2.颜色标注的缺陷;
 3.缺陷的尺寸和图像;
  

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